▍应用领域
本平板清洗线主要应用于显示、光电及精密玻璃制造领域,作为光刻工艺产线中的重要清洗单元,适用于基板在显影前后及相关制程环节的清洗处理,可与涂胶、曝光、显影等设备形成完整的光刻工艺产线,典型应用包括:
1.显示行业
TFT-LCD 显示面板制程
Mini-LED / Micro-LED 显示相关玻璃基板
触控面板、盖板玻璃(Cover Glass)
2.光电行业
光学玻璃、功能性玻璃基板
光学镀膜及图形转移相关制程
传感器及光电器件用玻璃基板
3.精密玻璃及功能基板
小尺寸及中尺寸平板玻璃
光刻工艺相关精密基板
▍特性规格
1.DI Water + 化学清洗液复合工艺
结合去离子水(DI Water)与化学清洗液
有效去除有机污染、无机残留及微颗粒
2.毛刷清洗结构
配置高洁净毛刷,对基板表面进行温和刷洗
有效提升颗粒去除能力,降低表面残留
3.多段式清洗流程
可配置化学清洗段、毛刷清洗段、DI 水冲洗段
支持多级清洗与漂洗,满足不同工艺需求
4.良好的工艺兼容性
适用于多种玻璃及功能性基板
满足显影前后不同清洗应用场景。
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