显示 / 光电 / 玻璃行业-湿法蚀刻机

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应用领域

 

  • LCD、OLED及触控屏玻璃基板湿法蚀刻
  • 光电器件薄膜图形化蚀刻
  • 玻璃基板表面图形显影后材料去除
  • 显示/光电行业多层膜材料湿法加工

 

 

设备特性

1.均匀湿法蚀刻
化学溶液均匀喷淋与浸泡相结合,确保蚀刻均匀性和图形精度。

2.温控稳定
溶液温度精确控制,保证蚀刻速率稳定,适应不同基板和薄膜材料。

3.高自动化与批量生产能力
PLC + 触控屏控制,减少人为误差,提高产能和工艺稳定性。

4.节能环保
药液循环使用与废液收集接口,符合环保标准。

5.兼容多种基板尺寸
可处理多种显示、光电及玻璃行业常用板材尺寸和厚度。

6.模块化维护设计
腔体、泵浦、喷淋系统可快速拆卸更换,降低维护成本。

 

技术规格

项目

参数

基板尺寸

可根据客户需求定制

处理方式

湿法化学蚀刻(Wet Chemical Etching)

蚀刻液类型

常用酸性湿法蚀刻液

液体循环方式

恒温循环泵 + 均匀喷淋 / 浸泡

温度控制

25–40 ℃(可调 ±1 ℃)

操作界面

7–10 英寸触控屏 + PLC 控制

生产模式

研发及批量生产

药液管理

循环使用 + 废液收集接口

清洗方式

DI Water Rinse

干燥方式

N₂或热风干燥


  

  

 

产品详情