▍应用领域
- LCD、OLED及触控屏玻璃基板湿法蚀刻
- 光电器件薄膜图形化蚀刻
- 玻璃基板表面图形显影后材料去除
- 显示/光电行业多层膜材料湿法加工
▍设备特性
1.均匀湿法蚀刻
化学溶液均匀喷淋与浸泡相结合,确保蚀刻均匀性和图形精度。
2.温控稳定
溶液温度精确控制,保证蚀刻速率稳定,适应不同基板和薄膜材料。
3.高自动化与批量生产能力
PLC + 触控屏控制,减少人为误差,提高产能和工艺稳定性。
4.节能环保
药液循环使用与废液收集接口,符合环保标准。
5.兼容多种基板尺寸
可处理多种显示、光电及玻璃行业常用板材尺寸和厚度。
6.模块化维护设计
腔体、泵浦、喷淋系统可快速拆卸更换,降低维护成本。
▍技术规格
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项目 |
参数 |
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基板尺寸 |
可根据客户需求定制 |
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处理方式 |
湿法化学蚀刻(Wet Chemical Etching) |
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蚀刻液类型 |
常用酸性湿法蚀刻液 |
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液体循环方式 |
恒温循环泵 + 均匀喷淋 / 浸泡 |
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温度控制 |
25–40 ℃(可调 ±1 ℃) |
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操作界面 |
7–10 英寸触控屏 + PLC 控制 |
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生产模式 |
研发及批量生产 |
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药液管理 |
循环使用 + 废液收集接口 |
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清洗方式 |
DI Water Rinse |
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干燥方式 |
N₂或热风干燥 |
产品详情