MASK清洗机

▍应用领域
 

Mask光罩的清洗

▍特性规格

   光罩尺寸：4/5/6/7/9寸光刻版，厚度1.5-6.4mm。

   Process方式：腔体具备SPM、SC-1、CO2和离子水清洗、高压水等。

   基板装载模块：手动载片到卡盘上。

   清洗方式:  旋转单片清洗

   清洗模块：1个清洗腔体 ，具备(1) SPM清洗, 柱状喷嘴（浓硫酸和双氧水混合液）

   (2) SC1清洗，兆声波喷头（氨水、双氧水、DIW混合液）

   (3) 有CO2和DIW混合（常温DIW混合CO2）。

   (4) 高压喷嘴（热水）

   (5) 尼龙毛刷刷洗功能

   (6) 背面清洗（热水）

   (7) 腔体自清洁（清洗剂）