MASK显影刻蚀机

▍应用领域
 

Mask光罩的显影与刻蚀一体

▍特性规格

    光罩尺寸：4/5/6/7/9寸光刻版，厚度1.5-6.4mm。

    Process方式：腔体具备显影液、刻蚀液、去离子水、背面清洗。                   

   基板装载模块：手动载片到夹具上。

   显影&刻蚀方式:  单片旋转喷涂化学液

   显影&刻蚀模块：1个腔体（显影和刻蚀兼容）