欢迎光临新顺鑫官方网站!

收藏本站 | 在线咨询 | 联系新顺鑫 | 官方微博

深圳市新顺鑫科技有限公司

图形影像转移专家!最具性价比曝光机首选品牌!
400-660-2096全国免费服务热线
首页 » 企业信息 » 曝光机的原理

  基本概念:曝光机是20世纪60年代初从扫描电子显微镜基础上发展起来,70年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业

  工作原理:在计算机的控制下,利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光,受电子束辐照后的光刻胶,其物理化学性质发生变化,在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域,从而在抗蚀剂上形成精细图形。

  应用范围:用于半导体制造,光电电子,平板,射频微波,衍射光学,微机电系统,凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求。

访问量:-
此文关键词:涂布机,滚涂机,蚀刻机,蚀刻线,显影机