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曝光机的原理

文章出处:深圳市新顺鑫科技有限公司 人气:-发表时间:2013-06-19 09:53:00

  基本概念:曝光机是20世纪 60年代初从扫描电子显微镜基础上发展起来,70年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业

  工作原理:在计算机的控制下,利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶)进行曝光,受电子束辐照后的光刻胶,其物理化学性质发生变化,在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域,从而在抗蚀剂上形成精细图形。

  应用范围:用于半导体制造,光电电子,平板,射频微波,衍射光学,微机电系统,凹凸或覆晶设备和其他要求精细印制和精度对准的技术要求。

此文关键字:涂布机,滚涂机,蚀刻机,蚀刻线,显影机